半導体材料
高純度エッチングガス
| 製品名 |
用途 |
化学式 |
純度（％） |
沸点（℃） |
| アデカ高純度液化塩素 |
エッチングガス |
Cl2 |
99.999以上 |
-34.1 |
| アデカ高純度液化臭化水素 |
エッチングガス |
HBr |
99.999以上 |
-66.7 |
| アデカ高純度三塩化ホウ素 |
エッチングガス |
BCl3 |
99.9999以上 |
12.5 |
ALD/CVD材料
製品性状リスト
| 製品名 |
用途 |
化学式 |
純度（％） |
沸点（℃） |
| アデカスーパーTEOS |
層間絶縁膜 |
Si(OC2H5)4 |
99.999995以上 |
166 |
| アデカ高純度TMOP |
ドーパント |
PO(OCH3)3 |
99.999995以上 |
197 |
| アデカ高純度TEOP |
ドーパント |
PO(OC2H5)3 |
99.999995以上 |
215 |
| アデカ高純度TMB |
ドーパント |
B(OCH3)3 |
99.999995以上 |
69 |
| アデカ高純度TEB |
ドーパント |
B(OC2H5)3 |
99.999995以上 |
118 |
| 品名 |
用途 |
化学式 |
蒸気圧 |
| TMA |
High-k |
Al(CH3)3 |
16Torr / 25℃ |
| TDMAH |
High-k |
Hf[N(CH3)2]4 |
10Torr / 86℃ |
| TEMAZ |
High-k |
Zr[N(C2H5)(CH3)]4 |
1Torr / 90℃ |
| OMCTS |
Low-k |
[OSi(CH3)2]4 |
40Torr / 90℃ |
| TMCTS |
Low-k |
[OSiH(CH3) ]4 |
7Torr / 20℃ |
| TDMAS |
SiO2/SiN |
HSi[N(CH3)2]3 |
25Torr /50℃ |
半導体用銅めっき液
| 分類名 |
特徴 |
| ベース液 (VMS) |
高純度硫酸銅系ベース液 |
| 添加剤 促進剤 |
オリジナル組成により高電流密度が選択可能 |
| 添加剤 抑制剤 |
オンカジおすすめ保有の多様な活性剤を利用 |
| 添加剤 平滑剤 |
高アスペクト比のTSVめっきを実現 |
品質保証体制
工場
高純度半導体製品の品質保証機能を高めるために、2003年に鹿島工場に分析・品質管理のための専用施設を建設しました。次世代半導体に要求される高精度の分析が、製造と一体で管理され、お客様へのスピード対応を図っています。
国際的な品質マネジメントであるISO9001、環境マネジメントシステムであるISO14001の認証を早期に取得しています。
分析・品質管理棟
ISO9001、ISO14001、OHSAS認定証
